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  • HYJL1200真空井式坩堝爐
    HYJL1200真空井式坩堝爐

    更新時(shí)間：2020-11-20

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    真空井式坩堝爐 本設(shè)備是由石英坩堝（或氧化鋁陶瓷坩堝）和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片，也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料
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